Mercury2000P系列無掩膜光刻機  

 

 

 

      支持:

 

    》第二代無掩膜光刻技術

    》全局對準功能

    》手動對準功能

    》預對準功能

    》對準補償設定

    》高精度圖形套刻匹配

    》全自動聚焦功能

    》灰度補償功能

    》支持GDSII,CIF,DXF多種格式處理

 

 

  產品介紹: 

 

  芯碩Mercury系列無掩膜直寫光刻設備基于先進的第二代光刻直寫技術,通過空間光調制器掃描技術實現直寫光刻。

    該系列產品主要應用于大規模集成電路150nm工藝節點以上掩膜版制作,亦可用于微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領域的直寫光刻,在應用中省去了繁瑣的掩膜加工步驟,相比單束直寫具有效率高、技術先進、應用靈活等特點。該系列產品采用芯碩專利技術的大功率LD(波長405nm)光源,可達0.65um解析度和0.25um的套刻精度。

 

   指標 :

 

  

 

        SEM效果圖:

 

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